Eins von 126 Stellenprofilen beim Arbeitgeber Carl Zeiss AG
Übernahme der Governance für alle Entwicklungsprojekte und Technologiestudien in der Abteilung / Funktion Handling EUV Metrology. Dies bedeutet im Einzelnen: disziplinarische, fachliche und methodische Führung des R&D-Funktionsteam; Handling EUV Metrology sowie aktives Schnittstellenmanagement zu angrenzenden Bereichen, interne Qualifizierungsmaßnahmen festlegen und die zugeordneten Mitarbeitenden entsprechend ihrer Qualifikation und Eignung optimal einsetzen sowie externe Kooperationen nutzen und weiter ausbauen, mit Ihrem Funktionsteam komplexe Messsysteme und Module für die Prüfung und Bewertung von Photomasken für die Halbleiterindustrie mit dem Schwerpunkt - Handlingssystem inkl. Firmware, Reticle Stage, Interferometer und Dämpfungssystem - termin- und kostengerecht entwickeln, in die Serienfertigung überführen und durch eine geeignete Patentstrategie absichern, die funktionale Roadmap inkl. dafür erforderlicher Studien zusammen mit Ihrem Team aktiv gestalten und vorantreiben, Nutzung und Ausbau von lokalen und globalen Modulen innerhalb EUV Metrology sowie Sicherstellung der global vorgegebenen Produktarchitekturen in Hard- und Software, Sicherstellung der Prozesskonformität inkl. Dokumentation für alle Entwicklungstätigkeiten(Produktentwicklungsprozess, Komponentenrichtlinie, Objektmeilensteinrichtlinie, Änderungsprozess sowie Software-Entwicklungsprozesse), regelmäßige Prüfung von KPIs (Key Performance Indicators) und darauf basierte Entwicklung von Verbesserungsmaßnahmen, bedarfsgerechte Kosten- und Ressourcenplanung erstellen inkl. Controlling der entsprechenden Kennzahlen, Ihre Mitarbeiter entsprechend der ZEISS Führungsgrundsätze führen, motivieren, beurteilen, steuern und entwickeln, Koordination und Ansprechpartner für den Betriebsrat an den Standorten Jena und Oberkochen für Mitarbeitende im eigenen Verantwortungsbereich.
Die Abteilung / Funktion Handling EUV Metrology.